第一六六八章 1500万美元一台
“董事长，算上这么多年的研发费用，一台浸没式光刻机的成本大概是4200万元，我们定价多少合适？”
会见后，魏建国和钱国培陪着孙健回到董事长办公室，两人有重要事情要请教，也知道董事长每次来都有重要事情要交待。
虽然孙健不管bSEc的日常事务，不在bSEc拿薪水（拿了也白拿），一个月左右才来一趟，但董事长办公室常年有人负责做卫生。
“魏总，既然我们率先研发成功65nm制程工艺，就不能好事了那些财大气粗的晶圆厂，我建议定价1500万美元一台。”
按照如今的汇率计算，1500万美元相当于万元人民币，一台相当于赚8200万元！
1500万美元一台听起来很贵，但孙健没有狮子大开口，前世在网上看过一则报道，一台ASmL早期生产的二手浸没式光刻机被国内一家晶圆厂买了回去，花费7500万元人民币，原价肯定超过3000万美元！
作为光刻机龙头GcA的老板，孙健对光刻机的定价机制一清二楚，GcA先研发出最先进的制程工艺，就能赚到高额垄断利润！等Nikon研发成功相同制程工艺的光刻机，GcA就开始大幅降价，不给对手赚取暴利的机会。
半导体技术的发展日新月异，新技术的不断涌现推动整个产业的不断革新，一步先步步先！没有哪家半导体公司敢停下来，由于光刻机在90nm制程工艺上被卡住了，Intel、Amd和国智cpU也无法升级换代。
由于bSEc和ASmL都投入巨资研发浸没式光刻机，特别是投入了数亿美元研发157nm方案的ASmL果断止损，集中全力同台积电合作，开发浸没式光刻机，Intel和Amd等美国半导体大厂预测二年内研发成功，Intel和Amd重新启动最新一代处理器的研发。
13.5nm波长光源的EUV激光器研发成功和 GcA EUV原型机亮相，虽然光刻机发展的瓶颈问题被完全解除，但GcA宣布，短时间内无法研发成功EUV光刻机，大家都将眼睛盯在134nm波长光源的浸没式光刻机上，预测占据全球光刻机技术实力第三位的ASmL会率先研发成功制程工艺65nm的浸没式光刻机。
2002年6月，pGcA半导体公司投资15亿美元建成了一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，其中购买光刻机（20台90nm和40台180nm制程工艺的光刻机）花费6亿美元，占40%；基建成本花费4.5亿美元，占30%。
当初，GcA生产的90nm制程工艺的光刻机刚问世时，INtEL、Ibm、tI、Amd和hp先后从GcA定购了一条价值25亿美元（包括基建费用）的12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线。
采用bSEc生产的半导体设备建设一条12英寸晶圆、65nm制程工艺的半导体生产线，一般需要20台65nm制程工艺的浸没式光刻机和40台90nm制程工艺的光刻机，按照一台65nm需要1500万美元，一台90nm需要500万美元计算，合计需要5亿美元；按照光刻机占到半导体设备价值的40%计算，设备总价值12.5亿美元；按照基建成本占到总投资的30%计算，需要5.35亿元。
一条12英寸晶圆、65nm制程工艺的半导体生产线的总投资需要17.85亿美元，其中设备总投资12.5亿美元，这条半导体生产线所需的设备，bSEc如今都能自己生产或能在国内买到，不担心别人卡脖子。
重生者苦心积虑，前后布局了18年。
bSEc下辖光刻机半导体研究院、光刻机公司、硅片制造公司、光刻胶公司、刻蚀机公司、离子注入机公司、热处理公司、芯片封装公司和芯片检测公司。
术业有专攻！
bSEc当初还将单晶硅、光源材料、激光器、金属材料和光刻气体等243项技术攻关项目，交给了中科院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂和金城金属气体生产厂等56家国企和民企，购买对方的专利技术，成立合资公司，同厂家签订了长期供货合同。
2001年4月，htIc投资1700万美元入股了俄罗斯mikro旗下的金属材料和光刻气体公司（占股25%），保障了bSEc所需金属材料和光刻气体的长期供应和价格稳定。
曙光通讯集团入股蔡司曙光光学仪器股份公司（占45%），光学镜头也有备选方案。
到了孙健这个层次，买全球卖全球是最佳选择，但作为国内公司，不得不准备好备胎。
嘿嘿……
魏建国和钱国培都笑了，在生意场上，精明的孙董事长从来都不是善茬，如今全球光刻机的市场规模一年也就350台左右，五家平分，一家不到80台，只卖光刻机早就饿死了！
去年，虽然全球半导体行业复苏，但全球光刻机产业受制于90nm制程工艺的瓶颈，全球半导体设备销售额只有223亿美元，其中光刻机销售额只有60亿美元，不到30%，专家预测今年全球半导体设备的销售额有可能超过300亿美元。
一旦bSEc浸没式光刻机推向市场，全球半导体设备销售额将会出现爆发式增长。
“魏总、李副总，我们一边申请公司发明专利，一边组织员工加班加点生产，我代表pGcA半导体公司预定一套65nm制程工艺的半导体生产线，其中20台90nm制程工艺的光刻机交给GcA生产。”
pGcA半导体公司是由pENG（占60%）和GcA（占40%）投资成立的中美合资公司，pENG和GcA都是上市公司，法人兼董事长孙健也要兼顾GcA投资者的利益。
“好的，董事长！”
bSEc和GcA的身后老板都是孙董事长，两家既是竞争对手也是合作伙伴。
“魏总，一旦通过专家组鉴定后，我们要在第一时间电话告知汤普森先生，将134nm波长光源的激光器和浸没式光刻系统专利技术卖给GcA。”
1993年8月，GcA同bSEc签订了磁悬浮式双工作台系统专利和ArF准分子激光器专利互换协定，bSEc如今拥有的134nm波长光源的激光器是在ArF准分子激光器专利的基础上研发的，按照双方签订的专利技术转让协定，专利技术也属于GcA，但浸没式光刻系统专利技术属于bSEc。就像GcA研制成功多项磁悬浮式双工作台系统专利技术也属于bSEc一样。
(本章完)
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